多弧离子镀膜机(буиат-6)性能分析和工艺参数研究 |
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引用本文: | 谢光荣,胡社军,黎炳雄,王桂棠,黄小平.多弧离子镀膜机(буиат-6)性能分析和工艺参数研究[J].工业工程,1997(2). |
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作者姓名: | 谢光荣 胡社军 黎炳雄 王桂棠 黄小平 |
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作者单位: | 广东工业大学材料科学与工程系 |
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摘 要: | 分析研究了多弧离子镀膜机буиат—6的主要性能。在不同工艺参数条件下,于高速钢基体上制备了Ti膜和TiN膜,用扫描电镜观察Ti膜表面形貌;用能谱仪对Ti膜上小液滴颗粒成份进行测试分析;用超微负荷硬度计测量了TiN膜的显微硬度;用表面刻划仪测试了TiN膜与基体的附着力。实验结果表明:选择适当的工艺条件,包括弧流大小,电磁场强度,镀膜时间以及冷阴极离子源辅助沉积,可获得性能优良的TiN膜,其显微硬度可达Hv2500,附着力为65N。
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关 键 词: | 多弧离子镀 弧流 Ti和TiN膜 冷阴极离子源 |
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