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| 热处理过程中渗碳浓度的高精度控制 | |
| 引用本文： | 阎林.热处理过程中渗碳浓度的高精度控制[J].电子技术应用,1990(9). |
| 作者姓名： | 阎林 |
| 作者单位： | 西北工业大学六○四教研室 |
| 摘 要： | <正> 微机在热处理过程中应用,主要使用PID 算法对温度进行控制。同样渗碳过程也可使用PID 算法控制,但是采用单一参数的PID 调节,不能使得渗碳浓度在给定时间内线性增加,到达设定值之后也不能稳定地保持该设定值,其主要原因是渗碳原料的化学反应过 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |
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