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水环境中离子对电化学水垢形成的影响
引用本文:黄超,李狮韬,蔡颖婷,杨智表.水环境中离子对电化学水垢形成的影响[J].家电科技,2018(8).
作者姓名:黄超  李狮韬  蔡颖婷  杨智表
作者单位:松下家电研究开发(杭州)有限公司
摘    要:为了研究水中成分对水垢形成的影响情况,我们根据经验选出水环境中成分中差异较大且对水垢形成有影响的四种因素(HCO_3、硬度、P、Ca/Mg比),通过正交试验研究其对水垢形成的影响,并通过扫描电镜和离子色谱仪分析仪分析水垢形貌和沉淀量,结果得出:影响大小依次是:HCO_3硬度PCa/Mg比。其中HCO_3、硬度、Ca/Mg比对水垢形成有促进作用,而P离子对水垢形成有抑制作用。进一步结合对应形成的水垢形貌综合分析,发现P离子会减少水垢晶核的形成和晶体的生长,从而降低水垢沉淀量,起到抑制水垢的作用。

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