| 溅射时间对Ni/SiO_2玻璃光衰减片衰减性能的影响 |
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| 引用本文： | 李磊,汤卉,王文雪.溅射时间对Ni/SiO_2玻璃光衰减片衰减性能的影响[J].哈尔滨理工大学学报,2015,20(1):16-19. |
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| 作者姓名： | 李磊 汤卉 王文雪 |
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| 作者单位： | 哈尔滨理工大学材料科学与工程学院,黑龙江哈尔滨,150040 |
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| 摘 要： | 为了提高光衰减片整体的光衰减效果,采用真空磁控溅射法,利用真空磁控溅射仪制备纳米级厚度的Ni/SiO2玻璃光衰减片.利用X-射线衍射(XRD)、原子能谱、扫描电镜和722分光光度计等表征手段,研究溅射时间(5、10、15、20、25 min)对透光率、微观结构的影响.实验结果表明:当溅射工作压力为0.4Pa,溅射时间为25 min时,金属Ni在SiO2玻璃基片上形成(111)和(200)晶面取向的镀Ni薄膜;SiO2玻璃基片上沉积的薄膜平整,颗粒分布均匀、排列紧密;试样的透光率达到0.41,采用磁控溅射法制备金属Ni/SiO2玻璃复合薄膜式光衰减片满足光纤通信需求.
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| 关 键 词： | 磁控溅射 Ni/SiO2玻璃光衰减片 溅射时间 |
The Effect of Sputtering Time on Properties of Ni/SiO2 Optical Attenuation Slices |
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| LI Lei,TANG Hui,WANG Wen-xue.The Effect of Sputtering Time on Properties of Ni/SiO2 Optical Attenuation Slices[J].Journal of Harbin University of Science and Technology,2015,20(1):16-19. |
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| Authors: | LI Lei TANG Hui WANG Wen-xue |
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| Affiliation: | LI Lei;TANG Hui;WANG Wen-xue;School of Material Science and Engineering,Harbin University of Science and Technology; |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | magnetron sputtering Ni/SiO2 optical attenuation slices sputtering time |
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