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碳材料表面沉积硅化物的研究
引用本文:唐建新,高军,王重海,张铭霞,杜斌,李传山.碳材料表面沉积硅化物的研究[J].现代技术陶瓷,2014(6).
作者姓名:唐建新  高军  王重海  张铭霞  杜斌  李传山
作者单位:山东理工大学;山东工业陶瓷研究设计院有限公司;
摘    要:采用化学液相沉积工艺(RCLD),在碳材料表面快速附着一层结合紧密、致密均匀的硅化物涂层,研究了不同直径的预制体表面处理以及电压和电流等对碳材料外部硅化物层结构和性能的影响。结果表明,经王水腐蚀的石墨表面粗糙化,有利于沉积层的生成和附着;预制体的直径为7mm、电压为52V、电流为60A时的抗氧化沉积层具有较好的性能。

关 键 词:碳材料  涂层  化学液相沉积  硅化物
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