| 双还原剂体系在化学镀中的应用研究 |
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| 引用本文： | 木梦宁,韩尚辰,李超雄,李冰.双还原剂体系在化学镀中的应用研究[J].安徽化工,2022,48(1):37-40,45. |
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| 作者姓名： | 木梦宁 韩尚辰 李超雄 李冰 |
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| 作者单位： | 合肥工业大学化学与化工学院,安徽合肥230009,天能电池(安徽)有限公司,安徽界首236516 |
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| 基金项目： | 动力电池绿色制造安徽省重点实验室资助项目 |
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| 摘 要： |
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| 关 键 词： | 化学镀 化学镀镍 化学镀钯 化学镀钴 双还原剂 |
Application of Double Reductant System in Electroless Plating |
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| MU Meng-ning,HAN Shang-chen,LI Chao-xiong,Li Bing.Application of Double Reductant System in Electroless Plating[J].Anhui Chemical Industry,2022,48(1):37-40,45. |
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| Authors: | MU Meng-ning HAN Shang-chen LI Chao-xiong Li Bing |
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| Abstract: | |
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