| 日本近期关注的UV/EB固化技术 |
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| 引用本文： | 吕延晓.日本近期关注的UV/EB固化技术[J].精细与专用化学品,2014,22(11). |
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| 作者姓名： | 吕延晓 |
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| 作者单位： | 辐射固化专委会,北京,100029 |
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| 摘 要： | 辐射固化技术在一些应用领域已相当成熟.然而,目前仍然存在足够的空间开展技术研发工作.日本近期的一些技术关注点是:在新概念的基础上开发固化机理不同的光引发剂(阴离子UV固化光引发剂、开环易位聚合光引发剂);阴影部分的UV光固化;UV光固化在三维(3D)打印中应用(立体激光光刻)的技术进展;以及UV光固化除了电子领域以外的其他应用(例如,在改善生活环境方面的应用).
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| 关 键 词： | 辐射固化 研究与发展 技术进展 |
Recent technical concerns of UV/EB curing technology in Japan |
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| LV Yan-xiao.Recent technical concerns of UV/EB curing technology in Japan[J].Fine and Specialty Chemicals,2014,22(11). |
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| Authors: | LV Yan-xiao |
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