| 化学气相沉积(CVD)炭/碳复合材料(C/C)研究现状 |
| |
| 引用本文： | 程永宏,罗瑞盈,王天民.化学气相沉积(CVD)炭/碳复合材料(C/C)研究现状[J].炭素技术,2002(5):26-32. |
| |
| 作者姓名： | 程永宏 罗瑞盈 王天民 |
| |
| 作者单位： | 北京航空航天大学材料物理与化学研究中心,北京,100083 |
| |
| 摘 要： | 主要介绍了炭／炭复合材料（C／C）的化学气相沉积（CVD0制备方法及其影响因素，以及热解炭的组织与沉积机理。概括了VCD的基本方法，如等温法、压差法、热梯度法等。分析了温度、气流速率、气体浓度、预制体及孔隙的形状大小状况等对CVD过程的影响。列举了热解炭的组织，包括光滑层、粗糙层、各向同性体碳以及它们的变体，并对其生长特征及性能进行了较详细的描述。综述了热解炭的沉积机理，典型的有分子沉积、固态沉积、液滴沉积机理等。
|
| 关 键 词： | 炭／炭复合材料 化学气相沉积 热解炭 沉积机理 |
| 文章编号： | 1001-3741(2002)05-0026-07 |
| 修稿时间： | 2002年7月2日 |
SUMMARY OF CHEMICAL VAPOR DEPOSITION (CVD) IN PREPARATION OF CARBON/CARBON COMPOSITES |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | Carbon/carbon chemical vapor deposition pyrolytic carbon deposition mechanism |
| 本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录！ |
