低温烧结碳化硅陶瓷分离膜的制备及其油水分离性能（英文）

碳化硅陶瓷分离膜具有高亲水性、耐化学腐蚀、抗膜污染等优异性能，在大宗废水、强腐蚀废水、高温废水等的高效处理中受到广泛的关注。然而，碳化硅是典型的强共价键化合物，碳化硅陶瓷膜制备过程具有烧结温度高、制备能耗大等问题。本文采用优选的低熔点化合物作为烧结助剂，经1 000℃烧结制备了高强度、孔径均匀的碳化硅陶瓷分离膜。研究了烧结助剂含量对碳化硅陶瓷膜微观结构、孔径分布、相组成及油水分离性能等的影响。研究表明，低熔点烧结助剂连接碳化硅颗粒形成陶瓷的骨架结构，随着烧结助剂含量从10%（质量分数）增加到30%，碳化硅陶瓷膜的孔隙率从42%降低到35%，同时平均孔径从3.5μm降低到2.1μm，成孔模式由碳化硅颗粒堆积过渡到烧结助剂成孔。纯水实验表明，烧结助剂含量为30%时，随着跨膜压差从0.2 bar增加到0.5 bar碳化硅陶瓷膜的分离通量从120 L/（m²·h）增加到306 L/（m²·h）；油水分离实验表明，当跨膜压力差为0.2 bar时碳化硅陶瓷膜的截留率和分离通量分别为93.3%和123 L/（m²·h）。