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高孔隙率YSZ-高致密YSZ薄膜共烧复合体的制备
引用本文:罗凌虹,汪兴华,吴也凡,程亮,石纪军.高孔隙率YSZ-高致密YSZ薄膜共烧复合体的制备[J].硅酸盐学报,2011,39(2).
作者姓名:罗凌虹  汪兴华  吴也凡  程亮  石纪军
作者单位:景德镇陶瓷学院,江西景德镇,333001
基金项目:国际科技合作项目(2009DFA51210); 国家自然科学基金(50862004)资助项目
摘    要:在中温固体氧化物燃料单电池制备过程中,用聚乙烯吡咯烷酮包裹改性的石墨粉体为造孔剂,以8%(摩尔分数)Y2O3稳定的ZrO2(8%in mole yttria stabilized zirconia,YSZ)粉体+石墨造孔剂为支撑层原料,与自制的水系流延YSZ电解质薄膜一起共压,制备了YSZ+石墨–YSZ薄膜复合体,在1 470℃下共烧4 h后获得高孔隙率YSZ–高致密YSZ薄膜共烧复合体。研究了不同溶剂体系中石墨含量和粒度对共烧体的影响。结果表明:选用粒径为6μm以下的石墨粉体作造孔剂能获得无开裂的多孔YSZ–YSZ薄膜共烧体,其共烧体为双层结构,层间结合紧密、结构均匀,孔隙率高达68%(体积分数)。在造孔剂的含量变化与材料烧成收缩率的关系中,造孔剂含量存在1个最佳含量值,当造孔剂含量在最佳值附近时,制备的共烧复合体质量最好。该最佳含量值随造孔剂颗粒尺寸大小不同而变化。

关 键 词:氧化钇稳定氧化锆  石墨  孔隙率  造孔剂  共烧体  

Preparation of the High Porosity YSZ-High Density YSZ Film Co-Firing Composite
LUO Linghong,WANG Xinghua,WU Yefan,CHEN Liang,SHI Jijun.Preparation of the High Porosity YSZ-High Density YSZ Film Co-Firing Composite[J].Journal of The Chinese Ceramic Society,2011,39(2).
Authors:LUO Linghong  WANG Xinghua  WU Yefan  CHEN Liang  SHI Jijun
Affiliation:LUO Linghong,WANG Xinghua,WU Yefan,CHEN Liang,SHI Jijun(Jingdezhen Ceramic Institute,Jingdezhen 333001,Jiangxi,China)
Abstract:
Keywords:yttria stabilized zirconia  graphite  porosity  pore-forming  co-firing body  
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
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