Zn还原SiCl4制取太阳能级多晶硅法的应用研究 |
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引用本文: | 王丽,邓丰.Zn还原SiCl4制取太阳能级多晶硅法的应用研究[J].化学工程与装备,2012(2):13-15. |
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作者姓名: | 王丽 邓丰 |
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作者单位: | 乐山职业技术学院,四川乐山,614000 |
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摘 要: | 随着世界和国内PV市场的快速发展,低成本、高效率的多晶硅生产方法重新受到产业界人士的关注,其中Zn还原SiCl4法因其投资成本低、转换效率高、能耗低、对环境影响小且能满足PV高纯硅的要求等优点成为研究的重点。本文从Zn还原SiCl4制取太阳能级多晶硅的原理、工艺技术以及与其他方法的比较分析可以得出Zn还原SiCl4将是今后低成本生产太阳能级多晶硅的重点发展方向。
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关 键 词: | Zn 还原 SiCl4 太阳能级多晶硅 |
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