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Zn还原SiCl4制取太阳能级多晶硅法的应用研究
引用本文:王丽,邓丰.Zn还原SiCl4制取太阳能级多晶硅法的应用研究[J].化学工程与装备,2012(2):13-15.
作者姓名:王丽  邓丰
作者单位:乐山职业技术学院,四川乐山,614000
摘    要:随着世界和国内PV市场的快速发展,低成本、高效率的多晶硅生产方法重新受到产业界人士的关注,其中Zn还原SiCl4法因其投资成本低、转换效率高、能耗低、对环境影响小且能满足PV高纯硅的要求等优点成为研究的重点。本文从Zn还原SiCl4制取太阳能级多晶硅的原理、工艺技术以及与其他方法的比较分析可以得出Zn还原SiCl4将是今后低成本生产太阳能级多晶硅的重点发展方向。

关 键 词:Zn  还原  SiCl4  太阳能级多晶硅
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