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| 铈基、硅基半导体抛光液的发展概况 | |
| 引用本文： | 张立业,张忠义,赵增祺,慕利娟.铈基、硅基半导体抛光液的发展概况[J].稀土,2013(2):68-73. |
| 作者姓名： | 张立业 张忠义 赵增祺 慕利娟 |
| 作者单位： | 内蒙古科技大学材料与冶金工程学院;包头稀土研究院;内蒙古工业大学材料科学与工程学院 |
| 基金项目： | 国家“863”项目(2010AA03A407);内蒙古科技厅项目(2010B1658);包头市科技局项目(2011J1004);内蒙古科技大学创新基金项目(2010NC062) |
| 摘 要： | 介绍了化学机械抛光液的研究进展和抛光原理,分析了化学机械抛光过程中抛光液的重要作用,阐述了配制化学机械抛光液的两种方法,分析了影响铈基抛光液和硅基抛光液抛光性能的诸多因素。最后指出了抛光液回收再利用的重要性和可行性。 |
| 关 键 词： | 化学机械抛光 CeO2抛光液 SiO2抛光液 |
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