| TiN薄膜沉积条件对组织结构和结合力的影响 |
| |
| 引用本文： | 肖娜,杜菲菲,邢韵.TiN薄膜沉积条件对组织结构和结合力的影响[J].材料与冶金学报,2015(3). |
| |
| 作者姓名： | 肖娜 杜菲菲 邢韵 |
| |
| 作者单位： | 1. 东北大学材料电磁过程研究教育部重点实验室,沈阳,110819;2. 东北大学材料各向异性与织构教育部重点实验室,沈阳,110819;3. 中国科学院沈阳自动化研究所,沈阳,110016 |
| |
| 基金项目： | 中央高校基本科研业务费，教育部科学技术研究重大项目 |
| |
| 摘 要： | 在不同沉积时间和基板温度下,采用反应磁控溅射的方法在Ti6Al4V基板上沉积Ti N薄膜,溅射过程中固定溅射总压、溅射功率、氮氩流量比等沉积条件.利用XRD、SEM分别研究了薄膜的微观结构和表面、截面形貌,利用显微硬度仪和划痕仪分别测量了薄膜的硬度和膜基结合力.研究结果表明:随着沉积时间的增加,薄膜硬度和膜基结合力均有增大趋势;随着基板温度的升高,Ti N薄膜择优取向由(111)转向(200)晶面,表面形貌由三角锥转变为片层状,硬度和膜基结合力均呈现升高趋势.
|
| 关 键 词： | 反应磁控溅射 TiN薄膜 沉积时间 基板温度 结合力 |
Effect of deposition conditions on structure and adhesion strength of TiN films |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | reactive magnetron sputtering TiN thin films deposition time substrate temperature adhesion strength |
| 本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录！ |
|
