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| Y1—xDyxBa2Cu3O7—δ（x=0.03,0.05）超导薄膜制备及性能 | |
| 引用本文： | 彭正顺,赵忠贤.Y1—xDyxBa2Cu3O7—δ（x=0.03,0.05）超导薄膜制备及性能[J].稀有金属,1995,19(3):165-167. |
| 作者姓名： | 彭正顺 赵忠贤 |
| 摘 要： | 叙述了用双靶直流磁控溅射仪制备Ｙ１－ｘＤｙｘＢａ２Ｃｕ３Ｏ７－δ（ｘ＝０．０３，０．０５）超导薄膜的工艺，按其工艺的薄膜Ｔｃ均大于８８Ｋ，随着ｘ值增加，Ｊｃ有上升趋势，ＸＲＤ，ＳＥＭ的结果表明镝掺杂膜有很好的ｃ轴取向，讨论了高温超导体钉扎机制。 |
| 关 键 词： | 薄膜 磁控溅射 超导体 YDBCD |
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