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| 电镀工艺条件与高饱和磁感应CONiFe软磁薄膜的性能 | |
| 引用本文： | 邓福铭,雷仁贵,赵国刚,王振廷,方光旦.电镀工艺条件与高饱和磁感应CONiFe软磁薄膜的性能[J].有色金属,2006,58(1):35-38. |
| 作者姓名： | 邓福铭 雷仁贵 赵国刚 王振廷 方光旦 |
| 作者单位： | 1. 中国矿业大学(北京校区)材料科学与工程系,北京,100083 2. 中国矿业大学(北京校区)材料科学与工程系,北京,100083;黑龙江科技学院,材料科学与工程系,哈尔滨,150027 3. 中国科学院计算技术研究所,北京,100080 |
| 基金项目： | 中国科学院资助项目;北京市自然科学基金 |
| 摘 要： | 研究电沉积钴镍铁合金工艺条件如电流密度、pH和温度以及镀层厚度对膜层性能的影响。用振动样品磁强计测试膜层的矫顽力Hc、磁化强度Ms及磁滞回线,用高频电感法测试膜层的磁导率μi,用四探针法测试膜层的电阻率ρ。结果表明,膜层的电磁性能与镀覆工艺条件相关,在最佳镀覆工艺条件下(电流密度10mA/cm2,pH=2.8,施镀温度25℃,时间10min)所得合金镀层光亮、致密,有较好电磁特性,Bs达1.9T,矫顽力Hc为1.15Oe,电阻率为45μΩ.cm,在1MHz下磁导率μi为602。 |
| 关 键 词： | 金属材料 高Bs软磁膜 电沉积 钴镍铁合金 |
| 文章编号： | 1001-0211（2006）01-0035-04 |
| 收稿时间： | 2005-06-28 |
| 修稿时间： | 2005年6月28日 |
Preparation and Performance of High Bs Plating Soft Magnetic Conife Film |
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| DENG Fu-ming,LEI Ren-gui,ZHAO Guo-gang,WANG Zhen-ting,FANG Guang-dan.Preparation and Performance of High Bs Plating Soft Magnetic Conife Film[J].Nonferrous Metals,2006,58(1):35-38. | |
| Authors: | DENG Fu-ming LEI Ren-gui ZHAO Guo-gang WANG Zhen-ting FANG Guang-dan |
| Abstract: | |
| Keywords: | metal material high Bs soft magnetic film electroplating CoNiFe alloy |
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