| 光学光刻技术的历史演变 |
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| 引用本文： | 马建军.光学光刻技术的历史演变[J].电子工业专用设备,2008,37(4):28-32. |
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| 作者姓名： | 马建军 |
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| 作者单位： | 长庆实业集团有限公司,西安,710021 |
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| 摘 要： | 简要回顾了光学光刻技术的发展历程,从IC技术节点微细化要求对光刻技术的挑战方面讨论了光学光刻技术的发展趋势及进入32nm技术节点的可能性。
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| 关 键 词： | 光学光刻 缩小步进光刻 步进扫描光刻 浸没式光刻 双重图形光刻 |
| 文章编号： | 1004-4507(2008)04-0028-05 |
| 修稿时间： | 2008年3月24日 |
The History Evolvement of Optics Lithography |
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| MA Jian-jun.The History Evolvement of Optics Lithography[J].Equipment for Electronic Products Marufacturing,2008,37(4):28-32. |
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| Authors: | MA Jian-jun |
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| Abstract: | The development cours of lithography is reviewed in this paper,the trend of optics lithography and the possibility of it enter 32nm node are also discussed with the challenge for optics lithography technic node demand. |
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| Keywords: | Optics Lithography Stepper Scanner Immersion lithography Dual Exposure |
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