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高性能背照式GaN/AlGaN p-i-n紫外探测器的制备与性能
引用本文:陈亮,张燕,陈俊,郭丽伟,李向阳,龚海梅.高性能背照式GaN/AlGaN p-i-n紫外探测器的制备与性能[J].红外与激光工程,2007,36(6):928-931.
作者姓名:陈亮  张燕  陈俊  郭丽伟  李向阳  龚海梅
作者单位:陈亮(中国科学院上海技术物理研究所,传感技术国家重点实验室,上海,200083);张燕(中国科学院上海技术物理研究所,传感技术国家重点实验室,上海,200083);陈俊(中国科学院上海技术物理研究所,传感技术国家重点实验室,上海,200083);郭丽伟(中国科学院物理研究所,北京,100083);李向阳(中国科学院上海技术物理研究所,传感技术国家重点实验室,上海,200083);龚海梅(中国科学院上海技术物理研究所,传感技术国家重点实验室,上海,200083)
摘    要:研究了GaN/AlGaN异质结背照式p-i-n结构可见盲紫外探测器的制备与性能。GaN/AlGaN外延材料采用金属有机化学气相沉积(MOCVD)方法生长,衬底为双面抛光的蓝宝石,缓冲层为AlN,n型层采用厚度为0.8 μm的Si掺杂Al0.3Ga0.7N形成窗口层,i型层为0.18 μm的非故意掺杂的GaN,p型层为0.15 μm的Mg掺杂GaN。采用Cl2、Ar和BCl3感应耦合等离子体刻蚀定义台面,光敏面面积为1.96×10-3 cm2。可见盲紫外探测器展示了窄的紫外响应波段,响应区域为310~365 nm,在360 nm处响应率最大,为0.21 A/W,在考虑表面反射时,内量子效率达到82%;优质因子R0A为2.00×108 Ω·cm2,对应的探测率D*=2.31×1013 cm·Hz1/2·W-1;且零偏压下的暗电流为5.20×10-13 A。

关 键 词:GaN/AlGaN  p-i-n  紫外探测器  响应光谱
文章编号:1007-2276(2007)06-0928-04
收稿时间:2007-02-08
修稿时间:2007-04-26

Fabrication and characterization of back-illuminated GaN/AlGaN p-i-n UV detectors with high performance
CHEN Liang,ZHANG Yan,CHEN Jun,GUO Li-wei,LI Xiang-yang,GONG Hai-mei.Fabrication and characterization of back-illuminated GaN/AlGaN p-i-n UV detectors with high performance[J].Infrared and Laser Engineering,2007,36(6):928-931.
Authors:CHEN Liang  ZHANG Yan  CHEN Jun  GUO Li-wei  LI Xiang-yang  GONG Hai-mei
Affiliation:1.State Key Laboratories of Transducer Technology, Shanghai Institute of Technical Physics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai 200083, China;2.Institute of Physics, Chinese Academy of Sciences, Beijing 100083, China
Abstract:作者简介:龚海梅(1965-),男,江苏宿迁人,研究员,博士,主要从事航天遥感红外光电传感器的研制,以及红外、紫外焦平面等新型探测器组件及其抗辐射机理与可靠性技术研究.Email:ghmhxnk@online.sh.cn
Keywords:GaN/A1GaN  p-i-n  Ultraviolet detector  Spectral responsivity
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