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| 真空镀制干涉薄膜时监控片高度的计算 | |
| 引用本文： | 丁方.真空镀制干涉薄膜时监控片高度的计算[J].激光技术,1983,7(3):35-36. |
| 作者姓名： | 丁方 |
| 摘 要： | 在用真空热蒸发介质镀制干涉薄膜时,膜层的厚度通常是用光电光度法进行控制的,其中用窄带干涉滤光片分出单色控制光束。这时,为了在镀件上得到光学厚度为λ/4的膜层(λ是监控滤光片的中心波长),镀件样品应放置在蒸发源上方一定的高度处。 |
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