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| 一种新型离子源——LY-3型离子源 | |
| 引用本文： | 陈亚光.一种新型离子源——LY-3型离子源[J].微细加工技术,1985(2). |
| 作者姓名： | 陈亚光 |
| 作者单位： | 长沙半导体工艺设备研究所 |
| 摘 要： | 本文介绍了LY—3型——永磁冷阴极电子振荡型离子源(以下简称LY—3型离子源)的结构设计和实验结果。用BF_3、PH_3、Ar等作放电物质。在放电功率小于50瓦的情况下,引出总束流强度可达4毫安。用于LC—2B中能离子注入机靶上(11)~B~+和的束流强度大于200微安,(40)~Ar~+的束流强度(当主高压为零时)大于600微安,同时具有较高成份的多电荷态离子。 |
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