| 基于光刻版的无留膜紫外纳米压印技术研究 |
| |
| 引用本文： | 张亚军,丁玉成,卢秉恒.基于光刻版的无留膜紫外纳米压印技术研究[J].微细加工技术,2007(4):18-21. |
| |
| 作者姓名： | 张亚军 丁玉成 卢秉恒 |
| |
| 作者单位： | 西安交通大学,机械制造系统工程国家重点实验室,西安,710049 |
| |
| 基金项目： | 国家自然科学基金;国家重点基础研究发展计划(973计划) |
| |
| 摘 要： | 针对纳米压印光刻技术中压印脱模后的留膜去除问题,提出了一种基于光刻版的无留膜紫外纳米压印技术.采用传统的光刻版作为紫外压印模版,由于模版上铬层的遮蔽作用.使得铬层下面的光刻胶不被曝光,从而可以轻易地被去除.实验结果表明,该技术综合了压印与光刻各自的优点,可以获得无留膜厚度的压印图形,省去了压印后的留膜刻蚀工艺.从而避免了由于留膜厚度不均匀所带来的过刻蚀或欠刻蚀的问题.
|
| 关 键 词： | 纳米压印 光刻 留膜 |
| 文章编号： | 1003-8213(2007)04-0018-04 |
| 修稿时间： | 2007年4月10日 |
Study of Nanoimprint Technology without Residual Layer Based on Photolithography Mask |
| |
| ZHANG Ya-jun,DING Yu-cheng,LU Bing-heng.Study of Nanoimprint Technology without Residual Layer Based on Photolithography Mask[J].Microfabrication Technology,2007(4):18-21. |
| |
| Authors: | ZHANG Ya-jun DING Yu-cheng LU Bing-heng |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | |
| 本文献已被 维普 万方数据 等数据库收录！ |
|
