| 亚分辨图形相移掩模的制作方法 |
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| 引用本文： | 冯伯儒,张锦,陈宝钦,侯德胜,苏平.亚分辨图形相移掩模的制作方法[J].微细加工技术,2001(2):14-19. |
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| 作者姓名： | 冯伯儒 张锦 陈宝钦 侯德胜 苏平 |
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| 作者单位： | 1. 中国科学院光电技术研究所
2. 中国科学院微电子中心, |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目(69276018,69776028);微细加工光学技术国家重点实验室基金资助项目(KFS9901) |
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| 摘 要： | 介绍亚分辨图形掩模的原理，应用及具有亚分辨图形的相移掩模和传统掩模的制作方法和工艺。
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| 关 键 词： | 亚分辨 相移掩膜 图形处理 |
| 文章编号： | 1003-8213(2001)02-0014-06 |
| 修稿时间： | 2000年8月21日 |
Fabrication Process of Phase-Shifting Masks With Sub-resolution Patterns |
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| FENG Bo-ru,ZHANG Jin ,CHEN Bao-qin,HOU De-sheng,SU Ping.Fabrication Process of Phase-Shifting Masks With Sub-resolution Patterns[J].Microfabrication Technology,2001(2):14-19. |
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| Authors: | FENG Bo-ru ZHANG Jin CHEN Bao-qin HOU De-sheng SU Ping |
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| Affiliation: | FENG Bo-ru1,ZHANG Jin 1,2,CHEN Bao-qin3,HOU De-sheng1,SU Ping1 |
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| Abstract: | Described are principles,applications and fabrication process of conventional masks and phase-shifting masks with sub-resolution pattems. |
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| Keywords: | Sub-resolution Phase-shifting masks (PSM) rim PSM auxilliary PSM |
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