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| 光学光刻和射线光刻技术的发展——参加ICO—17述评 | |
| 引用本文： | 冯伯儒.光学光刻和射线光刻技术的发展——参加ICO—17述评[J].微细加工技术,1997(1):1-7. |
| 作者姓名： | 冯伯儒 |
| 作者单位： | 中国科学院光电技术研究所!成都610029 |
| 摘 要： | 结合对1996年第17届国际光学学会会议的简介，评述了光学光刻和X射线光刻技术的发展概况。对一些相关技术，如激光等离子体X射线源、掩模、抗蚀剂、X射线光学元件和光刻装置的发展近况也做了一些介绍。 |
| 关 键 词： | 第17届国际光学学会会议 光学光刻 X射线光刻 |
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