用于注入机的新型大束流ECR离子源

前面已经介绍过一种大束流ECR离子源,它能产生O~+的含量达80％的200mA氧束流。最近,又研制出能产生束流密度大于100mA/cm~2的两种更先进的ECR离子源,其中一种既能提供高束流密度,又克服了以前离子源中所存在的微波传送窗口易于损伤的毛病,高速回流电子轰击传送窗口产生的这种损伤限制了离子源的使用寿命。通过采用多个微波入口结构引导微波进入等离体室,既满足了产生ECR的条件,同时又可以产生没有回流电子轰击窗口的高密度等离子体;另一种是消耗功率很小,产生束流很大的小型离子源,它的这两个特点是通过将等离子体室的内径减小到5cm而获得的,其直径比2.45千兆赫微波的传播临界尺寸还要小,在250瓦的低微波功率下已得到1×10~(13)/cm~3的大等离子体密度。