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| 氮氧化硅光波导的制作途径,性质及应用 | |
| 引用本文： | 祖继锋,余宽豪.氮氧化硅光波导的制作途径,性质及应用[J].半导体技术,1998,23(1):10-14. |
| 作者姓名： | 祖继锋 余宽豪 |
| 作者单位： | 辽宁师范大学(祖继锋)，上海冶金所微电子学分部(余宽豪) |
| 摘 要： | 重点分析了硅基ＳｉＯＮ光波导的工艺制作途径及其有关性能。根据有关实验结果，讨论了工艺中存在的问题，最后给出了它的应用。 |
| 关 键 词： | 氮氧化硅 化学汽相淀积 光波导 制造工艺 |
Technology,Properties and Application of SiON Planar Optical Waveguides |
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| Abstract: | |
| Keywords: | SiON PECVD Thermal nitridation Sputtering Optical waveguide Low pressure CVD |
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