| 放电等离子体中XeI准分子的形成过程 |
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| 引用本文： | 韩理,张连水,赵晓辉,李晓苇,董丽芳,傅广生.放电等离子体中XeI准分子的形成过程[J].中国激光,2002,29(4):332-334. |
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| 作者姓名： | 韩理 张连水 赵晓辉 李晓苇 董丽芳 傅广生 |
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| 作者单位： | 河北大学物理科学与技术学院,河北保定,071002 |
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| 基金项目： | 河北省自然科学基金 (编号 :1970 5 9)资助项目 |
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| 摘 要： | 研究了Xe/I2 混合气体 (气压 70～ 1330Pa)在直流辉光放电情况下XeI 准分子的形成过程 ,得到了XeI 准分子在 2 40～ 2 70nm波长范围内的荧光发射谱。并对XeI (B→X)跃迁谱线强度随混合气体压力的变化进行了实验研究 ,发现气压为 333Pa时荧光最强 ;此条件下 ,放电等离子体的电子温度为 13 2eV ,表明低气压放电等离子体中主要反应通道为快电子碰撞Xe使其跃迁至 3 P ,随之与I2 碰撞形成 XeI(A ,B ,C)。
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| 关 键 词： | 准分子 直流辉光放电 荧光发射谱 电子温度 |
| 收稿时间： | 2001/1/15 |
Formation of XeI Excimer in the Discharge Plasma |
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| HAN Li,ZHANG Lian-shui,Zhao Xiao-hui,Li Xiao-wei,Dong Li-fang,Fu Guang-sheng.Formation of XeI Excimer in the Discharge Plasma[J].Chinese Journal of Lasers,2002,29(4):332-334. |
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| Authors: | HAN Li ZHANG Lian-shui Zhao Xiao-hui Li Xiao-wei Dong Li-fang Fu Guang-sheng |
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| Abstract: | Low pressure DC flowing discharge is used to study the formation of XeI excimer in mixture of Xe/I 2. Fluorescence emission at spectral regions of 240～270 nm is examined. The characteristics of the emission spectra of the excimer and 253 nm intensity formed from mixture for different total gas pressures are reported. The investigation shows that 253 nm fluorescence intensity is the largest at 333 Pa and the correlated electron temperature of discharge plasma is 13.2 eV. The major reaction channel is Xe being excited to 3P by impact of high speed electron, and then XeI(A,B,C) being formed by collision between Xe( 3P) and I 2. |
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| Keywords: | excimer DC flow discharge fluorescence emission spectrum electron temperature |
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