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| nc-Si∶H薄膜的三阶非线性光学性质 | |
| 引用本文： | 郭震宁,郭亨群,王加贤,张文珍,李世忱.nc-Si∶H薄膜的三阶非线性光学性质[J].中国激光,2001,28(5). |
| 作者姓名： | 郭震宁 郭亨群 王加贤 张文珍 李世忱 |
| 作者单位： | 1. 华侨大学应用物理系 2. 天津大学精密仪器与光电子工程学院 |
| 基金项目： | 国家自然科学重大基金!(No .6 9896 2 6 0 )，集成光电子学国家重点实验室开放课题基金!(No .11E0 1)资助课题 |
| 摘 要： | 用简并四波混频技术 (DFWM)研究了nc Si∶H薄膜的三阶非线性光学性质 ,观察到了这种纳米薄膜材料的位相共轭信号 ,测得晶态比为XC1 =15 %和XC2 =30 % 的二个样品在光波波长为 5 89nm处的三阶非线性极化率分别为 χ1(3 ) =3 8× 10 - 6 esu和 χ2(3 ) =4 3× 10 - 7esu ,并对其光学非线性产生机理作了探讨 |
| 关 键 词： | nc-Si∶H薄膜 简并四波混频 光学非线性 |
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