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| 利用电光光谱对反铁电液晶中弛豫过程的研究 | |
| 引用本文： | 金友.利用电光光谱对反铁电液晶中弛豫过程的研究[J].光机电信息,2000,17(3). |
| 作者姓名： | 金友 |
| 作者单位： | |
| 摘 要： | 反铁电液晶(AFLC)很有希望应用于平板显示,因为它比Clark和Lagerwall二人在(铁电液晶(FLCs)中发现的双稳态开关至少还多一个稳定态.确定这种集合模式(collective modes)的起因将有可能对这些材料做进一步改进,以提高它们的开关速度进而增加这些材料在显示器和光电装置中的应用. |
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