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场致发射显示领域专利分析
引用本文:郑可炉,黄顺宁,郭太良.场致发射显示领域专利分析[J].激光与光电子学进展,2007,44(12):68-73.
作者姓名:郑可炉  黄顺宁  郭太良
作者单位:福州大学物理与信息工程学院,福州,350002
基金项目:福建省科技厅资助省属高校项目
摘    要:由于优异的显示特性,场致发射显示器被认为是最有发展前景的平板显示器件之一.分析场致发射显示领域的专利有助于了解该领域的技术发展动态.通过检索欧洲专利局的专利数据库,对筛选出的主要场致发射领域相关的专利进行统计分析,讨论了美国、日本、韩国、中国等的厂商在场致发射显示领域技术的发展现状和未来发展趋势,着重研究了我国场致发射显示领域专利的发展趋势和存在的问题.

关 键 词:场致发射显示器  专利  平板显示  统计分析  场致发射  平板显示器件  专利分析  Field  Emission  Display  问题  存在  研究  趋势  现状  中国  韩国  日本  美国  统计分析  领域相关  筛选  专利数据库  欧洲  检索  动态
收稿时间:2007-09-24
修稿时间:2007年9月24日

Patents Analysis on Field Emission Display
ZHENG Kelu,HUANG Shunning,GUO Tailiang.Patents Analysis on Field Emission Display[J].Laser & Optoelectronics Progress,2007,44(12):68-73.
Authors:ZHENG Kelu  HUANG Shunning  GUO Tailiang
Abstract:With many excellent preperties, field emission display(FED) is considered as one of the most promising flat panel displays(FPD). It is useful to analyze patents for studying the development trends of FED. After selected from the patent database of European Patent Office, the main FED patents were analyzed and sorted. The FED development status and trends in the United States, Japan, South Korea, China, and other countries were discussed. Existing problems and development trends of FED patent in China were mainly discussed.
Keywords:field emission display  patent  flat panel display  statistical analysis
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