| 厚二氧化硅光波导薄膜的制备 |
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| 引用本文： | 包洪涛,戴基智,杨亚培,赵天卓,佟会,罗辉.厚二氧化硅光波导薄膜的制备[J].激光与光电子学进展,2005,42(5):48-50,55. |
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| 作者姓名： | 包洪涛 戴基智 杨亚培 赵天卓 佟会 罗辉 |
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| 作者单位： | 电子科技大学光电信息学院,成都,610054 |
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| 摘 要： | 随着光通信的飞速发展，Si基SiO2平面光波导集成器件的应用更加重要和广泛。在Si基上制备高质量的厚SiO2薄膜，是制作SiO2光波导及其集成器件的基础。本文介绍了Si基厚SiO2薄膜的几种制备方法。
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| 关 键 词： | 光波导薄膜 二氧化硅 SiO2薄膜 集成器件 平面光波导 Si基 制备方法 光通信 |
| 收稿时间： | 2004/12/20 |
Fabrication of Thick Silica Film for Optical Waveguides |
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| BAO Hongtao,DAI Jizhi,Yang Yapei,ZHAO Tianzhuo,TONG Hui,LUO Hui.Fabrication of Thick Silica Film for Optical Waveguides[J].Laser & Optoelectronics Progress,2005,42(5):48-50,55. |
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| Authors: | BAO Hongtao DAI Jizhi Yang Yapei ZHAO Tianzhuo TONG Hui LUO Hui |
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| Abstract: | With the development of optical communications integrated devices on silicon-based silica planar optical waveguides have been widely used and play an important role in optical communications. Depositing high quality thick SiO2 film on Si substrate is the basis for fabricating waveguides and integrated devices. Some fabrication methods of thick SiO2 film are described |
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| Keywords: | optical waveguides silicon substrate SiO2 Sol-Gel FHD(Flame Hydrolysis Deposition) PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) |
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