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掺Nd3+离子的高硅氧玻璃微片激光器
引用本文:陈丹平,夏金安,邱建荣,朱从善.掺Nd3+离子的高硅氧玻璃微片激光器[J].激光与光电子学进展,2005,42(12):39-39,38.
作者姓名:陈丹平  夏金安  邱建荣  朱从善
作者单位:中国科学院上海光学精密机械研究所,上海,201800;中国科学院上海光学精密机械研究所,上海,201800;浙江大学材料系,杭州,310027
基金项目:国家基金委杰出青年基金(No.50125208)和上海市科委项目(No.0352nm 042)资助项目
摘    要:将SiO2含量超过97wt%的具有纳米级微孔的多孔高硅氧玻璃浸泡在含有Nd^3+离子的溶液后取出,在1100℃烧结成透明无孔高硅氧玻璃。在800nm的激光抽运下,这种Nd^3+离子掺杂的高硅氧玻璃微片激光器实现了斜率效率为62%,光-光转换效率为42%,波长为1064nm的激光输出。

关 键 词:纳米多孔高硅氧玻璃  高温烧结  微片激光器
收稿时间:2005-10-31
修稿时间:2005-10-31
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