| PZT铁电薄膜湿法刻蚀技术研究 |
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| 引用本文： | 郑可炉,褚家如,鲁健,李恒.PZT铁电薄膜湿法刻蚀技术研究[J].压电与声光,2005,27(2):209-212. |
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| 作者姓名： | 郑可炉 褚家如 鲁健 李恒 |
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| 作者单位： | 中国科学技术大学,精密机械与精密仪器系,安徽,合肥,230027 |
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| 基金项目： | 教育部博士点基金(20030358018)，优秀青年教师资助计划项目 |
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| 摘 要： | 介绍了一种刻蚀效果良好的PZT薄膜的湿法刻蚀方法。在分析了刻蚀液成分对刻蚀效果影响的基础上,选择体积比为1∶2∶4∶4的BHF/HCl/NH4Cl/H2O溶液作为刻蚀液,刻蚀速率为0.016μm/s。实验表明,刻蚀得到的PZT薄膜图形表面无残留物,侧蚀比小(1.5∶1),侧面倾角约60°。刻蚀液对光刻胶和PZT薄膜底电极Pt的选择性好,该工艺适用于MEMS领域中PZT薄膜的微图形化。
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| 关 键 词： | 锫钛酸铅PZT薄膜 湿法刻蚀 微图形化 |
| 文章编号： | 1004-2474(2005)02-0209-04 |
| 修稿时间： | 2003年6月2日 |
Study on Wet-etching of PZT Thin Films |
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| ZHENG Ke-lu,CHU Jia-ru,LU Jian,LI Heng.Study on Wet-etching of PZT Thin Films[J].Piezoelectrics & Acoustooptics,2005,27(2):209-212. |
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| Authors: | ZHENG Ke-lu CHU Jia-ru LU Jian LI Heng |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | PZT PZT thin film wet-etch pattern |
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