磷硅玻璃膜的等离子活性淀积及特性 |
| |
引用本文: | Akira Takamatsu
,古月.磷硅玻璃膜的等离子活性淀积及特性[J].微电子学,1985(3). |
| |
作者姓名: | Akira Takamatsu 古月 |
| |
摘 要: | 研究了由等离子体活化反应系统(P—PSG)淀积的磷硅玻离膜。分析了对应不同淀积参数的P—PSG的基本特征。在该等离子体淀积方法中,利用反应气体SiH_4、PH_3和N_2O进行淀积, P—PSG有高的淀积速率〔大约为百分之10(W/O)P摩尔重量〕。用这种方法淀积的P-PSG膜与常压下(AP-PSG)淀积的常规PSG膜比较,显示出良好的薄膜性能,如在热处理期间具有较强的抗裂性,保真的台阶覆盖和可控的压应力等。
|
本文献已被 CNKI 等数据库收录! |
|