| 基于虚拟制造技术的集成电路工艺设计优化 |
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| 引用本文： | 王镇,王纪民.基于虚拟制造技术的集成电路工艺设计优化[J].微电子学,2002,32(3):172-174. |
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| 作者姓名： | 王镇 王纪民 |
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| 作者单位： | 清华大学,微电子学研究所,北京,100084 |
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| 摘 要： | 采用虚拟制造技术对0.8μm双阱LPLV CMOS工艺进行优化，确定了主要的工艺参数。在此基础上，对全工艺过程进行仿真，得到虚拟制造器件和软件测试数据，所得结果与实测数据吻合得很好。
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| 关 键 词： | 虚拟制造技术 集成电路 工艺设计优化 |
| 文章编号： | 1004-3365(2002)03-0172-03 |
| 修稿时间： | 2001年7月10日 |
Optimizing IC Process Design with Virtual Fabrication |
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| WANG Zhen,WANG Ji ming.Optimizing IC Process Design with Virtual Fabrication[J].Microelectronics,2002,32(3):172-174. |
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| Authors: | WANG Zhen WANG Ji ming |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | CMOS Device Virtual fabrication Process simulation Process optimization |
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