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过渡区p层在高速沉积非晶硅薄膜电池中的应用
引用本文:李贵君,侯国付,韩晓艳,魏长春,孙建,戴志华,赵颖,耿新华.过渡区p层在高速沉积非晶硅薄膜电池中的应用[J].光电子.激光,2009,20(3):333-336.
作者姓名:李贵君  侯国付  韩晓艳  魏长春  孙建  戴志华  赵颖  耿新华
作者单位:南开大学光电子薄膜器件与技术研究所,光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室,光电信息技术科学教育部重点实验室,天津,300071  
基金项目:国家重点基础研究发展规划(973计划),国家自然科学基金,国家科技计划配套资助项目 
摘    要:研究了采用甚高频等离子体增强化学气相沉积(VHF-PECVD)技术沉积从微晶相向非晶相相变的过渡区p层,并将其作为电池的窗口层应用到高速沉积的非晶硅薄膜电池中。通过调整p层的沉积参数,获得不同p层的暗电导率从1.0E-8S/cm变化到1.0E-1S/cm,并获得了从微晶相向非晶相转变的过渡区p层。实验发现,电池的开路电压Voc随p层SiH4浓度的增加先增加后降低,当p层处在过渡区时达到最大;p层处在过渡区时电池的短路电流Isc和填充因子FF都得到了不同程度的提高。在p/i界面引入buffer层后,能进一步显著提高电池的FF和Voc。在过渡区p层作为电池窗口层,没有背反射电极,本征层沉积速率为1.5nm/s情况下获得效率达8.65%(Voc=0.89V,Jsc=12.90mA/cm2,FF=0.753)的高速非晶硅薄膜电池。比较了过渡区P层与P-a-SiC:H分别作为电池窗口层对于电池性能特别是FF的影响,由于存在结构演变的原因,FF对于过渡区P层厚度的依赖大于后者。

关 键 词:甚高频等离子体增强化学气相沉积(VHF-PECVD)  过渡区p层  非晶硅  P-a-SiC:H

Application of the transition zone p layer in amorphous silicon thin film solar cells with high deposition rate
LI Gui-jun,HOU Guo-fu,HAN Xiao-yan,WEI Chang-chun,SUN Jian,DAI Zhi-hu,ZAHO Yin,GENG Xin-hua.Application of the transition zone p layer in amorphous silicon thin film solar cells with high deposition rate[J].Journal of Optoelectronics·laser,2009,20(3):333-336.
Authors:LI Gui-jun  HOU Guo-fu  HAN Xiao-yan  WEI Chang-chun  SUN Jian  DAI Zhi-hu  ZAHO Yin  GENG Xin-hua
Affiliation:Institute of Photo-Electronic Thin Film Devices and Technology;Tianjin Key Laboratory of Photo-Electronic Thin Film Devices and Technology;and Key Laboratory on Optoelectronic Information Science and Technology;Nankai University;Tianjin 300071;China
Abstract:This paper studies the deposition of the transition p layer (from microcrystalline phase to amorphous phase) as window layer in high-rate deposition of amorphous silicon thin film solar cells by using very high frequency plasma enhanced chemical vapor deposition(VHF-PECVD).By adjusting the deposition parameters (including the SC,glow power,etc.),the dark conductivity of the p layers is from 1.0 E-8S/cm to 1.0 E-1S/cm,finally we obtain the transition p layer.With increasing the SC of the p layer,the Voc incr...
Keywords:P-a-SiC:H
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