| 激光化学腐蚀孔直径控制与横向腐蚀特性 |
| |
| 引用本文： | 刘霖,赵素英,刘娟秀,范超,吴云峰,王昱琳,叶玉堂.激光化学腐蚀孔直径控制与横向腐蚀特性[J].光电子．激光,2005,16(7):841-844. |
| |
| 作者姓名： | 刘霖 赵素英 刘娟秀 范超 吴云峰 王昱琳 叶玉堂 |
| |
| 作者单位： | 1. 电子科技大学光电信息学院,四川成都,610054
2. 电子科技大学电子工程学院,四川成都,610054 |
| |
| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目(60277008)，教育部重点科技资助项目(03147)，电科院及四川省科技厅资助项目(04GG02102001) |
| |
| 摘 要： | 提出了一种激光诱导液相腐蚀的抗蚀膜掩蔽法。理论分析和实验结果表明，该方法可以有效地控制激光化学腐蚀的图像形状；因不需要对激光光束进行聚焦，光传播垂直于基片表面，制作出的腐蚀孔侧壁具有很高的垂直度；利用激光光束中心区域能量分布近似均匀的特点，使小面积腐蚀区域的腐蚀速率近似相等，腐蚀面内各点没有明显的高度差；避免了激光对腐蚀孔侧壁的直接照射，横向腐蚀由激光化学腐蚀变为轻微化学腐蚀，大大降低了横向腐蚀对腐蚀孔形状的影响。为说明抗蚀膜掩蔽法的横向腐蚀问题，专门对GaAs基片的轻微腐蚀性能进行了研究并报道了有价值的实验结果。
|
| 关 键 词： | 激光辅助腐蚀 光电子 半导体化合物 |
| 文章编号： | 1005-0086(2005)07-0841-04 |
Laser Etching Holes Diameter Controlling and Transverse Etching |
| |
| LIU Lin,ZHAO Su-ying,LIU Juan-xiu,FAN Chao,WU Yun-feng,WANG Yu-lin,YE Yu-tang.Laser Etching Holes Diameter Controlling and Transverse Etching[J].Journal of Optoelectronics·laser,2005,16(7):841-844. |
| |
| Authors: | LIU Lin ZHAO Su-ying LIU Juan-xiu FAN Chao WU Yun-feng WANG Yu-lin YE Yu-tang |
| |
| Affiliation: | LIU Lin1,ZHAO Su-ying1,LIU Juan-xiu2,FAN Chao1,WU Yun-feng1,WANG Yu-lin1,YE Yu-tang1 |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | laser assisted etching photoelectron semiconductor compound |
| 本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录！ |
| 点击此处可从《光电子．激光》浏览原始摘要信息 |
|
点击此处可从《光电子．激光》下载全文 |
|
