首页 | 官方网站   微博 | 高级检索  
     

硅基PT/PZT/PT夹心结构的性能研究
引用本文:任天令,张林涛,刘理天,李志坚.硅基PT/PZT/PT夹心结构的性能研究[J].电子器件,2000,23(3):169-172.
作者姓名:任天令  张林涛  刘理天  李志坚
作者单位:清华大学微电子所,北京,100084
基金项目:国家自然科学基金!( 6 980 6 0 0 7)
摘    要:在已有的以夫机锆盐为原料,用Sol-Gel方法制备硅基Pb(Zr0.53Ti0.47)O3(PZT)铁电薄膜的工艺基础上,地制备出PbTiO3/Pb(Zr0.53Ti0.47O3/PbTiO3(PT/PZT/PT)夹心式新结构。由于采用了这种闪心式结构,使得PZT铁电薄膜的退火温度由原来的900℃降到了700℃。通过实验检验了新结构的铁电和介电性能。发现夹心结构有助于提高PZT薄膜的品质。

关 键 词:夹心结构  PZT  PT  硅基  性能  半导体

Characterization of Silicon-based PT/PZT/PT Sandwich Structure
REN Tian-ling,ZHANG Lin-tao,LIU Li-tian,LI ZHi-jian.Characterization of Silicon-based PT/PZT/PT Sandwich Structure[J].Journal of Electron Devices,2000,23(3):169-172.
Authors:REN Tian-ling  ZHANG Lin-tao  LIU Li-tian  LI ZHi-jian
Abstract:
Keywords:sandwich structure  PZT  PT  Sol-Gel method  
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司    京ICP备09084417号-23

京公网安备 11010802026262号