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GaInP2/GaAs/Ge叠层太阳电池中的高效率Ge底电池
引用本文:王亮兴,涂洁磊,张忠卫,池卫英,彭冬生,陈超奇,陈鸣波.GaInP2/GaAs/Ge叠层太阳电池中的高效率Ge底电池[J].半导体学报,2005,26(13):196-199.
作者姓名:王亮兴  涂洁磊  张忠卫  池卫英  彭冬生  陈超奇  陈鸣波
作者单位:上海空间电源研究所,上海 200233;上海空间电源研究所,上海 200233;上海空间电源研究所,上海 200233;上海空间电源研究所,上海 200233;上海空间电源研究所,上海 200233;上海空间电源研究所,上海 200233;上海空间电源研究所,上海 200233
基金项目:国家重点基础研究发展计划(973计划)
摘    要:从电池的结构参数及器件工艺等方面分析了Ge底电池的开路电压Voc、短路电流Isc和填充因子FF的影响.结果表明:控制发射层的表面复合,并减薄其厚度可以提高开路电压Voc,并可以有效提高短路电流Isc;调整相应的器件工艺有利于填充因子FF的提高. 采用上述改进措施,成功得到Voc达到287.5mV, Isc达到73.13mA/cm2,效率达到7.35%的Ge太阳电池.

关 键 词:Ge太阳电池  高效率  表面复合速率  器件工艺的改善

High Efficiency Ge Bottom Cell for GaInP2/GaAs/Ge Three-Junction Tandem Solar Cell
Wang Liangxing,Tu Jielei,Zhang Zhongwei,Chi Weiying,Peng Dongsheng,Chen Chaoqi and Chen Mingbo.High Efficiency Ge Bottom Cell for GaInP2/GaAs/Ge Three-Junction Tandem Solar Cell[J].Chinese Journal of Semiconductors,2005,26(13):196-199.
Authors:Wang Liangxing  Tu Jielei  Zhang Zhongwei  Chi Weiying  Peng Dongsheng  Chen Chaoqi and Chen Mingbo
Affiliation:Shanghai Institute of Space Power Sources,Shanghai 200233,China;Shanghai Institute of Space Power Sources,Shanghai 200233,China;Shanghai Institute of Space Power Sources,Shanghai 200233,China;Shanghai Institute of Space Power Sources,Shanghai 200233,China;Shanghai Institute of Space Power Sources,Shanghai 200233,China;Shanghai Institute of Space Power Sources,Shanghai 200233,China;Shanghai Institute of Space Power Sources,Shanghai 200233,China
Abstract:
Keywords:Ge solar cell  high efficiency  surface-recombination velocity  improvement of device process
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