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双沟道实空间电子转移晶体管的设计、研制和特性测量
引用本文:郭维廉,张世林,梁惠来,齐海涛,毛陆虹,牛萍娟,于欣,王伟,王文新,陈宏,周均铭.双沟道实空间电子转移晶体管的设计、研制和特性测量[J].半导体学报,2008,29(1).
作者姓名:郭维廉  张世林  梁惠来  齐海涛  毛陆虹  牛萍娟  于欣  王伟  王文新  陈宏  周均铭
作者单位:天津大学电子信息工程学院,天津,300072;天津工业大学信息与通信工程学院,天津,300160;天津大学电子信息工程学院,天津,300072;天津工业大学信息与通信工程学院,天津,300160;中国科学院物理研究所,北京,100080
基金项目:国家重点基础研究发展计划(973计划)
摘    要:采用双沟道结构和GaAs衬底,成功设计研制了双沟道实空间电子转移晶体管.它具有RSTT典型的"A"形负阻I-V特性和较宽的平坦谷值区.通过栅压可改变各种负阻参数值,当栅压从0.6V增至1.0V时,PVCR的变化范围是2.1~10.6峰值电流跨导约为3×10-4 S.负阻参数VP,VV和开始产生负阻的栅极阈值电压都小于国际上同类器件的报道值,因此更适合低功耗的运用.

关 键 词:RSTT  高速化合物三端功能器件  三端负阻器件  热电子器件  电子转移器件

Design, Fabrication, and Characterization of Dual Channel Real Space Transfer Transistors
Guo Weilian,Zhang Shilin,Liang Huilai,Qi Haitao,Mao Luhong,Niu Pingjuan,Yu Xin,Wang Wei,Wang Wenxin,Chen Hong,Zhou Junming.Design, Fabrication, and Characterization of Dual Channel Real Space Transfer Transistors[J].Chinese Journal of Semiconductors,2008,29(1).
Authors:Guo Weilian  Zhang Shilin  Liang Huilai  Qi Haitao  Mao Luhong  Niu Pingjuan  Yu Xin  Wang Wei  Wang Wenxin  Chen Hong  Zhou Junming
Abstract:
Keywords:
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