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MOSFET抗辐照能力预测方法
引用本文:彭绍泉,杜磊,庄奕琪,包军林,刘江,苏亚慧.MOSFET抗辐照能力预测方法[J].半导体学报,2008,29(7):1360-1364.
作者姓名:彭绍泉  杜磊  庄奕琪  包军林  刘江  苏亚慧
作者单位:西安电子科技大学技术物理学院,西安 710071;西安电子科技大学技术物理学院,西安 710071;西安电子科技大学微电子学院,西安 710071;西安电子科技大学微电子学院,西安 710071;西安电子科技大学技术物理学院,西安 710071;西安电子科技大学技术物理学院,西安 710071
基金项目:国家自然科学基金资助项目
摘    要:基于金属-氧化物-半导体场效应晶体管(MOSFET)噪声的载流子数涨落和迁移率涨落理论,建立起MOSFET抗辐照能力预测模型.利用该模型,可较好地通过辐照前的1/f噪声参量,预测辐照后分别由氧化层陷阱和界面陷阱诱使阈值电压漂移的情况.模型模拟结果与实际测量结果符合良好,验证了预测模型的正确性,并为工程应用提供MOSFET抗辐照能力预测方法.

关 键 词:1/f噪声  MOSFET  辐照  预测
文章编号:0253-4177(2008)07-1360-05
修稿时间:12/8/2007 8:38:28 PM

A Forecast Technique for Radiation-Resistant Capability on MOSFETs
Peng Shaoquan,Du Lei,Zhuang Yiqi,Bao Junlin,Liu Jiang and Su Yahui.A Forecast Technique for Radiation-Resistant Capability on MOSFETs[J].Chinese Journal of Semiconductors,2008,29(7):1360-1364.
Authors:Peng Shaoquan  Du Lei  Zhuang Yiqi  Bao Junlin  Liu Jiang and Su Yahui
Affiliation:School of Technical Physics,Xidian University,Xi'an 710071,China;School of Technical Physics,Xidian University,Xi'an 710071,China;School of Microelectronic,Xidian University,Xi'an 710071,China;School of Microelectronic,Xidian University,Xi'an 710071,China;School of Technical Physics,Xidian University,Xi'an 710071,China;School of Technical Physics,Xidian University,Xi'an 710071,China
Abstract:Based on metal-oxide-semiconductor field effect transistor (MOSFET) noise theory of carrier number fluctuation and mobility fluctuation,a forecast model of radiation-resistant capability is established.This model can preferably forecast post-irradiation threshold voltage drift due to oxide traps and interface traps through the pre-irradiation 1/f noise parameter.The simulation results of the model agree well with the measurement results.The forecast model is validated.The model provides a forecast technique for radiation-resistant capability on MOSFETs for engineering applications.
Keywords:1/f noise  MOSFET  radiation  forecast
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