μc-Si∶H/a-Si∶H多层膜的周期性结构和量子尺寸效应 |
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引用本文: | 徐明,王洪涛,冯良桓,周心明,蔡亚平,冯技文,徐宁,麦振洪.μc-Si∶H/a-Si∶H多层膜的周期性结构和量子尺寸效应[J].半导体学报,2001,22(4):435-439. |
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作者姓名: | 徐明 王洪涛 冯良桓 周心明 蔡亚平 冯技文 徐宁 麦振洪 |
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作者单位: | [1]中国科学院物理研究所,北京100080 [2]四川大学材料科学系,成都610064 |
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基金项目: | 国家自然科学基金;59272095; |
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摘 要: | 利用射频辉光放电法 ,通过周期性交替切换两种耦合电极的方式 ,制备了 μc- Si∶ H/a- Si∶ H多层膜 .低角度X射线衍射 (L AXRD)测试表明 ,这种多层膜具有良好的周期性结构 .观察了上述多层膜的光学性质及电导率与温度的关系 ,发现其吸收边随着 a- Si∶ H层的减薄而蓝移 ,低温下的电导激活能 Ea 随着 a- Si∶ H层的减薄而减小 .
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关 键 词: | 射频辉光放电法 μc-Si∶H/a-Si∶H多层膜 光学性质 电导激活能 |
文章编号: | 0253-4177(2001)04-0435-05 |
修稿时间: | 1999年11月2日 |
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