首页 | 官方网站   微博 | 高级检索  
     

μc-Si∶H/a-Si∶H多层膜的周期性结构和量子尺寸效应
引用本文:徐明,王洪涛,冯良桓,周心明,蔡亚平,冯技文,徐宁,麦振洪.μc-Si∶H/a-Si∶H多层膜的周期性结构和量子尺寸效应[J].半导体学报,2001,22(4):435-439.
作者姓名:徐明  王洪涛  冯良桓  周心明  蔡亚平  冯技文  徐宁  麦振洪
作者单位:[1]中国科学院物理研究所,北京100080 [2]四川大学材料科学系,成都610064
基金项目:国家自然科学基金;59272095;
摘    要:利用射频辉光放电法 ,通过周期性交替切换两种耦合电极的方式 ,制备了 μc- Si∶ H/a- Si∶ H多层膜 .低角度X射线衍射 (L AXRD)测试表明 ,这种多层膜具有良好的周期性结构 .观察了上述多层膜的光学性质及电导率与温度的关系 ,发现其吸收边随着 a- Si∶ H层的减薄而蓝移 ,低温下的电导激活能 Ea 随着 a- Si∶ H层的减薄而减小 .

关 键 词:射频辉光放电法    μc-Si∶H/a-Si∶H多层膜    光学性质    电导激活能
文章编号:0253-4177(2001)04-0435-05
修稿时间:1999年11月2日
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
点击此处可从《半导体学报》浏览原始摘要信息
点击此处可从《半导体学报》下载全文
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司    京ICP备09084417号-23

京公网安备 11010802026262号