首页 | 官方网站   微博 | 高级检索  
     

低阻p型衬底上高阻厚层n型外延
引用本文:谭卫东,唐有青,马利行,骆红,张文清,高涛.低阻p型衬底上高阻厚层n型外延[J].半导体学报,2006,27(13):183-185.
作者姓名:谭卫东  唐有青  马利行  骆红  张文清  高涛
作者单位:南京国盛电子有限公司,南京 210038;南京国盛电子有限公司,南京 210038;南京国盛电子有限公司,南京 210038;南京国盛电子有限公司,南京 210038;南京国盛电子有限公司,南京 210038;南京国盛电子有限公司,南京 210038
摘    要:介绍了高阻厚层反型外延片的一种实用生产技术,即在PE-2061S外延设备上,采取特殊的工艺控制在电阻率小于0.02Ω·cm的p型低阻衬底上实现了高阻厚层n型外延生长,外延层电阻率大于40Ω·cm,厚度大于100μm. 研究表明:该外延材料完全可以满足IGBT器件制作的需要.

关 键 词:外延  高阻厚层  自掺杂

High Resistivity and Thick Epitaxial Layer of n-Type on Low Resistivity p-Type Substrates
Tan Weidong,Tang Youqing,Ma Lixing,Luo Hong,Zhang Wenqing and Gao Tao.High Resistivity and Thick Epitaxial Layer of n-Type on Low Resistivity p-Type Substrates[J].Chinese Journal of Semiconductors,2006,27(13):183-185.
Authors:Tan Weidong  Tang Youqing  Ma Lixing  Luo Hong  Zhang Wenqing and Gao Tao
Affiliation:Nanjing Guosheng Electronic Ltd, Nanjing 210038, China;Nanjing Guosheng Electronic Ltd, Nanjing 210038, China;Nanjing Guosheng Electronic Ltd, Nanjing 210038, China;Nanjing Guosheng Electronic Ltd, Nanjing 210038, China;Nanjing Guosheng Electronic Ltd, Nanjing 210038, China;Nanjing Guosheng Electronic Ltd, Nanjing 210038, China
Abstract:
Keywords:epitaxy  high resistivity and thick epitaxial layer  self-doped
点击此处可从《半导体学报》浏览原始摘要信息
点击此处可从《半导体学报》下载全文
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司    京ICP备09084417号-23

京公网安备 11010802026262号