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键参数拓扑指数与金属卤化物的标准生成焓△fH的相关性研究
引用本文:卿彬菊.键参数拓扑指数与金属卤化物的标准生成焓△fH的相关性研究[J].西南民族学院学报(自然科学版),2004,30(4):446-449.
作者姓名:卿彬菊
作者单位:青海民族学院化学系 青海
摘    要:提出了一种新的键参数拓扑指数mVq,mVq={Σninjnk…(Zi/Ri)(Zj/Rj)(Zk/Rk)…]0.5},0V=Σni(Zi/Ri)0.5这零阶指数,1V=Σninj(Zi/Ri)0.5(Zj/Rj)0.5为1阶指数.将0V,1V,ΔX(电负性差)与59种卤化物的标准生成焓△fHo进行关联,取得了较为满意的结果,相关系R=0.986525.mVq是较为理想的拓扑指数,可用来估算金属卤化物的热力学量.

关 键 词:键参数拓扑指数  金属卤化物  标准生成焓  相关性
文章编号:1003-2843(2004)04-0446-04
修稿时间:2004年4月6日

Research on correlation between chemical bond parameter topological index and standard heat of formation of metal halide
QING Bin-ju.Research on correlation between chemical bond parameter topological index and standard heat of formation of metal halide[J].Journal of Southwest Nationalities College(Natural Science Edition),2004,30(4):446-449.
Authors:QING Bin-ju
Abstract:
Keywords:chemical bond parameter topological index  metal halide  standard heat of formation  correlation
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