| 基于轨迹控制的机器人抛光工艺 |
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| 引用本文： | 韩光超,孙明.基于轨迹控制的机器人抛光工艺[J].华中科技大学学报(自然科学版),2009,37(2). |
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| 作者姓名： | 韩光超 孙明 |
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| 作者单位： | 韩光超,Han Guangchao(中国地质大学(武汉)机械与电子信息学院,湖北,武汉,430074);孙明,Sun Ming(中国地质大学(武汉)信息工程学院,湖北,武汉,430074)
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| 基金项目： | 中国博士后科学基金，中国地质大学(武汉)优秀青年教师资助计划 |
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| 摘 要： | 针对普通商用工业机器人的封闭控制结构难以实现在线控制的特点,采用软质抛光工具来降低快速制模工艺中机器人抛光的轨迹误差.为了获得稳定的抛光压力,在机器人抛光轨迹规划的基础上,通过轨迹调整,对软质抛光工具的弹性变形和抛光过程磨损进行有效补偿.实验结果表明:当轴向预压量为1.0 mm时,每隔175 mm的抛光间距进行轴向补偿0.1 mm,即可获得稳定的抛光压力和均匀的抛光过程.
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| 关 键 词： | 工业机器人 抛光 轨迹控制 软质抛光工具 补偿 |
Path control-based robotic polishing technology |
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| Han Guangchao,Sun Ming.Path control-based robotic polishing technology[J].JOURNAL OF HUAZHONG UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY.NATURE SCIENCE,2009,37(2). |
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| Authors: | Han Guangchao Sun Ming |
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