| 溅射气氛中O2／Ar比及热处理对直流反应磁控溅射法制备玻璃基TiO2薄膜结构与亲水性的影响 |
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| 引用本文： | 赵青南 刘保顺 赵修建 A．W．Sleight.溅射气氛中O2／Ar比及热处理对直流反应磁控溅射法制备玻璃基TiO2薄膜结构与亲水性的影响[J].稀有金属材料与工程,2003,32(5):339-343. |
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| 作者姓名： | 赵青南 刘保顺 赵修建 A．W．Sleight |
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| 作者单位： | 1. 武汉理工大学,湖北,武汉,430070
2. Oregon State University,Corvallis OR 97331,USA |
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| 基金项目： | 湖北省自然科学基金资助项目 (2001abb077);教育部科学技术重点项目 (99087) |
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| 摘 要： | 在工作气压为0．80Pa的氧氩气混合气氛下，改变氧与氩的流量比(O2／Ar：0．10，0．20，0．30)，在预先镀10nm左右SiO2的普通玻璃基片上用直流(D．C．)磁控溅射法制备了300nm左右的TiO2薄膜试样。离线在500℃、氧气氛下对试样热处理2h。用X射线光电子能谱(XPS)和X射线衍射仪(XRD)分别研究了试样热处理前后的表面元素组成、离子状态和物相组成，用接触角分析仪测试了试样在紫外光(UV)照射后的水润湿角。
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| 关 键 词： | 玻璃基TiO2薄膜 亲水性 直流反应磁控溅射 氧气和氩气流量比 |
| 文章编号： | 1002-185X(2003)05-0339-05 |
| 修稿时间： | 2002年10月10 |
Effect of the Ratio of Oxygen to Argon and Thermal Treatment on the Structure and Hydrophilicity of TiO2 Thin Films Coated on Glass by DC Reactive Magnetron Sputtering |
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| Zhao Qingnan,Liu Baoshun,Zhao Xiujian,A.W.Sleight.Effect of the Ratio of Oxygen to Argon and Thermal Treatment on the Structure and Hydrophilicity of TiO2 Thin Films Coated on Glass by DC Reactive Magnetron Sputtering[J].Rare Metal Materials and Engineering,2003,32(5):339-343. |
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| Authors: | Zhao Qingnan Liu Baoshun Zhao Xiujian AWSleight |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | TiO_2 thin film based glass hydrophilicity magnetron sputtering |
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