薄膜应力的研究 |
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引用本文: | 范玉殿,周志烽.薄膜应力的研究[J].真空科学与技术学报,1993(2). |
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作者姓名: | 范玉殿 周志烽 |
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作者单位: | 清华大学材料科学与工程系,广东省佛山市陶瓷研究所 北京 100084,广东 528031 |
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摘 要: | 本文首先简述了薄膜应力研究的发展过程,并指出了薄膜应力在薄膜研究与生产中的普遍性和重要性。薄膜应力研究的基本问题包括应力的测量、应力产生的机制、应力的控制和应力的作用。应力与薄膜结构、性能之间存在着相互影响的复杂关系。在综述前人研究工作的基础上,本文还简要介绍了Co—Cr合金膜和Gd-Fe合金膜的应力研究结果。
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