镁合金微弧氧化中电源脉冲宽度的作用

为研究带放电回路的微弧氧化电源脉冲宽度对镁合金微弧氧化的影响,设计了频率为500 Hz条件下,占空比为20%、40%、80%时的镁合金微弧氧化实验。研究发现,随着脉冲宽度的增加,膜层表面孔洞数量减少且孔径尺寸略有增大;微弧氧化的成膜效率随着脉冲宽度的增加而增大;在占空比40%左右时成膜效率最高,且膜层质量较好。