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ZAlSi12Cu2Mg1微弧氧化陶瓷膜层形成过程研究
引用本文:韩春霞,刘向东,王晓军,吕凯,王力杰.ZAlSi12Cu2Mg1微弧氧化陶瓷膜层形成过程研究[J].稀有金属材料与工程,2007,36(Z3):581-584.
作者姓名:韩春霞  刘向东  王晓军  吕凯  王力杰
作者单位:1. 内蒙古工业大学,内蒙古,呼和浩特,010051
2. 中国兵器工业集团第五二研究所,内蒙古,包头,014034
基金项目:铝合金陶瓷气缸的开发与产业化内蒙古科技攻关项目
摘    要:通过控制微弧氧化时间,研究了ZAlSi12Cu2Mg1在不同氧化时间下膜层的生长过程,分析了氧化过程中正向电流密度、膜层厚度的变化.结果表明微弧氧化阶段又分为氧化过渡阶段和氧化烧结阶段.氧化过渡阶段陶瓷层以向外生长为主;生成Al2O3非晶氧化物;氧化烧结阶段膜层以向内生长为主,此阶段膜层生长速率最快,生成Al2O3晶体和莫来石.氧化烧结阶段对陶瓷膜层的形成起重要作用,对氧化烧结阶段的控制可直接影响膜层的厚度以及膜层中Al2O3晶体含量.

关 键 词:微弧氧化  陶瓷膜层
文章编号:1002-185X(2007)S3-581-04
修稿时间:2006年11月22

Study on the Formation Process of Ceramic Coatings on ZAlSi12Cu2Mg1 by Micro-Arc Oxidation
Han Chunxia,Liu Xiangdong,Wang Xiaojun,Lv Kai,Wang Lijie.Study on the Formation Process of Ceramic Coatings on ZAlSi12Cu2Mg1 by Micro-Arc Oxidation[J].Rare Metal Materials and Engineering,2007,36(Z3):581-584.
Authors:Han Chunxia  Liu Xiangdong  Wang Xiaojun  Lv Kai  Wang Lijie
Abstract:
Keywords:ZAlSi12Cu2Mg1
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