基于GaAs IPD的X波段200W GaN宽带功率放大器 |
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引用本文: | 黄旭,银军,余若祺,斛彦生,倪涛,许春良.基于GaAs IPD的X波段200W GaN宽带功率放大器[J].半导体技术,2023(6):488-492. |
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作者姓名: | 黄旭 银军 余若祺 斛彦生 倪涛 许春良 |
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作者单位: | 中国电子科技集团公司第十三研究所 |
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摘 要: | 基于GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)研制了一款X波段宽带内匹配大功率放大器。输入匹配电路采用高集成的GaAs集成无源元件(IPD)技术,在有限空间内实现宽带匹配。输出匹配电路采用L-C-L匹配网络及三节阻抗变换线,实现四胞匹配合成。该放大器封装在采用铜-钼铜-铜热沉的金属陶瓷管壳内,尺寸仅为24 mm×17.4 mm×5 mm。测试结果显示,在36 V漏极电压下,8.5~10.5 GHz频带内饱和输出功率大于200 W,功率附加效率≥38%,功率增益平坦度小于0.8 dB。该功率放大器具有广阔的工程应用前景。
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关 键 词: | GaN 内匹配 宽带 大功率 GaAs集成无源元件(IPD) |
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