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用In_(0.5)Al_(0.5)P作发射区的新型GaAs HBT
引用本文:曲兰欣.用In_(0.5)Al_(0.5)P作发射区的新型GaAs HBT[J].固体电子学研究与进展,1995(2).
作者姓名:曲兰欣
摘    要:用In_(0.5)Al_(0.5)P作发射区的新型GaAsHBT近年来,异质结双极晶体管(HBT)在高速电路中的应用已引起广泛重视。据《IEEEEDL》第15卷1期报道.J.M.Kuo等用气源分子束外延(GSMBE)技术首次生长出了In0.5Al0.5...

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