| CVD金刚石薄膜取向生长研究现状 |
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| 引用本文： | 刘之景,周海洋.CVD金刚石薄膜取向生长研究现状[J].材料保护,2000,33(1):95-97. |
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| 作者姓名： | 刘之景 周海洋 |
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| 作者单位： | 中国科学技术大学!合肥230026 |
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| 摘 要： | 单晶衬底上外延生长金刚石薄膜一直是ＶＣＤ金刚石技术领域的重要研究方向之一，近年来这方面的研究取得了长足的进步。回顾了金刚石取向膜的研究史，介绍了提高金刚石膜取向度的方法和目前对金刚石取向膜生长过程，生长机理研究取得的进展及金刚石取向膜具有独特优异性能的实验研究。
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| 关 键 词： | CVD 金刚石薄膜 取向生长 薄膜取向 |
| 文章编号： | 1001-1560(2000)01-0095-02 |
Orinted Growth of CVD Diamond Film |
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| LIU Zhi-jing,ZHOU Hai-yang.Orinted Growth of CVD Diamond Film[J].Journal of Materials Protection,2000,33(1):95-97. |
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| Authors: | LIU Zhi-jing ZHOU Hai-yang |
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